为去掉iPhone的刘海,苹果把国产机的技术,申请成了专利?

自从苹果的iPhoneX发布后，给整个智能手机界带来了两项创新，一项是FaceID，也就是刷脸技术，迅速成为了行业纷纷模仿的功能。

另一项是刘海屏，因为FaceID采用了3D结构光，再加上前摄等，一共有7个元件，全部放到前面板上，又要屏占比高，只有刘海屏这种做法，而这种做法也引来了国产机的模仿。

不过，随着大家的审美水平不断地改变和提升，iPhone上的刘海屏也一直被大家吐槽，尤其后来国产机慢慢放弃了刘海屏，搞出了很多的挖孔、水滴、药丸屏后，很多人只想享受FaceID带来的便利，却又不想要刘海屏，希望苹果能够有创新，把刘海屏技术去掉。

近日，有媒体报道称，苹果公司申请了一项屏下光线传感器的专利，苹果设计了一种新的传感器，可以放在屏幕下面，这样未来的iPhone上，刘海屏就有可能会消失，所有的元件放到了屏幕下面去了。

对于这个所谓的专利方案，大家是不是特别的熟悉？这不就是前段时间在2021MWC大会上，中兴首发的屏下3D结构光技术么？

中兴采用了国产厂商光鉴科技的技术，将3D结构光所需要的元件，甚至将前置摄像头全部放到了屏幕下面，整个手机前脸没有了任何刘海屏。

当然，看似方案一样，不过技术原理还是千差万别的，就拿刷脸来说，苹果的FaceID技术，是基于VCSEL+DOE的方案，并且申请了大量的专利的，拥有非常完整的专利壁垒。

而中兴光鉴科技的3D结构光技术，是采用的EEL（边发射激光器）结合纳米光子芯片的结构光方案，还是很不一样的。

但表面来看，苹果申请的专利创意，真的与中兴的这个方案是基本一致的，不知道你是怎么看的？